近日，蘇創(chuàng)投·國發(fā)創(chuàng)投所投企業(yè)芯達(dá)半導(dǎo)體設(shè)備（蘇州）有限公司（以下簡稱：芯達(dá)半導(dǎo)體）經(jīng)過兩年的研發(fā)與測(cè)試，正式推出用于8英寸與12英寸晶圓正面、背面、邊緣高效單片物理清洗設(shè)備Clean-pro2000系列。

CleanPro2000適用于8英寸和12英寸晶圓物理單片清洗，無需翻轉(zhuǎn)晶圓即可完成正面、背面和邊緣的清洗，大大減少以往單片清洗設(shè)備因搬運(yùn)翻轉(zhuǎn)帶來的晶圓污染。該設(shè)備采用Nano Spray無損二流體沖洗技術(shù)，晶圓正面清洗損傷率降至極低程度。該設(shè)備具有高效率和高質(zhì)量的清洗效果特點(diǎn)，背面和邊緣清洗采用刷洗技術(shù)

CleanPro2000的高產(chǎn)能可達(dá)到WPH＞300片每小時(shí)，適用于單晶清洗工藝，是晶圓制備和加工過程中的理想選擇。

CleanPro2000采用單元模塊化的設(shè)計(jì)，使其易于在不同的設(shè)備設(shè)置中進(jìn)行快速調(diào)整和維護(hù)。根據(jù)客戶產(chǎn)能需求，可以合理匹配單元數(shù)量。因此，根據(jù)客戶的產(chǎn)量大小情況，都能為客戶提供優(yōu)化的設(shè)備方案，以實(shí)現(xiàn)最佳效益。

通過簡單的單元組件設(shè)計(jì)，CleanPro2000顯著降低了維護(hù)和保養(yǎng)成本，可以最大限度地減少停機(jī)時(shí)間和生產(chǎn)成本。

       涂膠顯影設(shè)備屬于晶圓制造過程中的核心設(shè)備之一，特別是屬于黃光區(qū)核心設(shè)備之一，目前多依賴于進(jìn)口，芯達(dá)半導(dǎo)體是國內(nèi)為數(shù)不多的在涂膠顯影設(shè)備領(lǐng)域能夠批量出貨的企業(yè)之一。此次晶圓單片無損物理清洗機(jī)的推出進(jìn)一步拓展了相關(guān)產(chǎn)品線以及產(chǎn)品應(yīng)用場景，為芯達(dá)半導(dǎo)體后續(xù)進(jìn)一步提升市場份額提供了保障。在中美貿(mào)易關(guān)系緊張的大背景下，芯達(dá)半導(dǎo)體有望在國產(chǎn)替代的大背景下做大做強(qiáng)。